Aktie des Tages 11-10-2017 AIXTRON

Aixtron ist die stärkste TEC DAX  Aktie des Jahres 2017!

Im modernen Leben geht heute nichts mehr ohne Halbleiter. Sie sind in der Elektronik grundlegendes Element von Prozessoren und Datenspeichern und damit im Alltag in zahlreichen Anwendungen zu finden - vom Smartphone bis zur industriellen Steuerungsanlage. Die Aixtron AG aus Herzogenrath in Nordrhein-Westfalen entwickelt und produziert Maschinen zur Beschichtung von Halbleitern unterschiedlicher Materialien. Kern des Geschäftes von Aixtron bildet mit der metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung (MOCVD) eine Technologie, die zur Herstellung von LED, Lasern und anderen optolelektronischen Bauteilen verwendet wird. Zu den Kunden von Aixtron gehören darüber hinaus Unternehmen, die auf drahtlose Datenübertragung oder Speicher- und Prozessortechnik spezialisiert sind.

 

Aixtron SE ist ein weltweit führender Anbieter von Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Die Produkte der Gesellschaft werden von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungs-, Silizium- und organischen Halbleitermaterialien sowie Kohlenstoff-Nanostrukturen genutzt. Eingesetzt werden diese Bauelemente in der Displaytechnik, der Signal- und Lichttechnik, Glasfaser-Kommunikationsnetzen, drahtlosen und mobilen Telefonie-Anwendungen, der optischen und elektronischen Datenspeicherung, LEDs, Photovoltaik sowie einer Reihe anderer High-Tech-Anwendungen. Zu den Kunden zählen viele namhafte internationale Elektronikkonzerne wie Osram, Philips, Merck, Mitsubishi, Sumitomo oder Samsung sowie zahlreiche kleinere Hersteller mikro- und optoelektronischer Bauelemente. Des Weiteren kooperiert das Unternehmen mit verschiedenen Universitäten und Forschungseinrichtungen.

 

Update 25.07.2017: Basierend auf seiner Einschätzung der Auftragslage von AIXTRON geht der Vorstand nun davon aus, im Geschäftsjahr 2017 Umsatzerlöse und Auftragseingänge zwischen EUR 210 Mio. und 230 Mio. zu erzielen. AIXTRON wird die Neuausrichtung des Konzerns weiter vorantreiben und die Forschungs- und Entwicklungsaufwendungen mit den Umsatzerlösen in Einklang bringen, um im Geschäftsjahr 2018 wieder in die Gewinnzone zurückzukehren. Da die Umsetzung dieser Strategie starken Einfluss auf die Ertragslage haben könnte, gibt der Vorstand keine Prognose zu EBITDA, EBIT und Nettoergebnis im Geschäftsjahr 2017 ab. Der Vorstand wird eine aktualisierte Prognose zur Ergebnisentwicklung für das Geschäftsjahr 2017 abgeben, sobald sich die oben genannten Pläne und Maßnahmen konkretisieren. Der Vorstand geht davon aus im Geschäftsjahr 2017 einen positiven Free Cashflow und im Geschäftsjahr 2018 ein positives EBIT zu erzielen.

 

14.09.2017 

 

QE ERWEITERT PRODUKTION VON 6-ZOLL-WAFERN FÜR VCSEL MIT MEHREREN AIX 2800G4-TM ANLAGEN VON AIXTRON

Anlagen werden in kürzlich bekannt gegebener Produktionsstätte in Südwales installiert

AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, hat von IQE plc (UK), einem international tätigen Lieferanten fortschrittlicher Wafer-Produkte und Wafer-Dienstleistungen für die Halbleiterindustrie, eine Bestellung über mehrere MOCVD-Anlagen erhalten. Die vollautomatisierten Planetenanlagen vom Typ AIX 2800G4-TM sollen für die Herstellung von Galliumarsenid-basierten (GaAs) Epi-Wafern auf 6-Zoll-Substraten zur Produktion von VCSEL (vertical-cavity surface-emitting laser) eingesetzt werden, die in zahlreichen Photonik-Anwendungen benötigt werden.

Alle Systeme verfügen über eine 8x6-Zoll-Konfiguration und werden die bereits von IQE in der Produktion genutzten AIX 2800G4-TM Anlagen ergänzen, um die schnell wachsende Marktnachfrage nach VCSEL-Bauelementen zu befriedigen. Die neuen Produktionssysteme werden von einem lokalen AIXTRON Support-Team bis zum ersten Quartal 2018 in einer neuen, modernen Fertigungsstätte in Betrieb genommen. Diese wurde erst kürzlich im Rahmen der Programme der Hauptstadtregion Cardiff gepachtet, die darauf abzielen, die Entwicklung des Clusters für Verbindungshalbleiter („CS connected“) in Südwales zu unterstützen.

 

05. Oktober 2017 |

ELITE ADVANCED LASER ERHÖHT KAPAZITÄT MIT AIX G5+ C

AIXTRON Planetentechnologie ersetzt in der Herstellung leistungsstarker Leistungselektronik immer häufiger Silizium durch Galliumnitrid

AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gibt bekannt, dass die Elite Advanced Laser Corporation (eLASER), ein führender Anbieter von elektronischen Produktionsdienstleistungen (Electronics Manufacturing Services, EMS) für moderne Optoelektronik- und Hochfrequenzkomponenten aus Taiwan, einen Folgeauftrag über die Lieferung einer AIX G5+ C Anlage zur Herstellung von Epitaxie-Wafern und Bauelementen für die Anwendung in der Leistungselektronik erteilt hat.

Die Produktionsanlage wird in der zweiten Jahreshälfte 2017 installiert und ergänzt damit die derzeitigen Produktionskapazitäten von eLASER. Die Anlage verfügt über die Penta-Injektor-Technologie, die höchste Materialhomogenität über den gesamten Durchmesser des Wafers hinweg gewährleistet. Das System ist darüber hinaus mit dem Wafer-Transfermodul für den Kassettenbetrieb (Cassette-to-Cassette, C2C) zur vollen Automatisierung der Galliumnitrid-basierten (GaN) Produktionsprozesse ausgestattet.

Wir waren beeindruckt von der Geschwindigkeit, in der eLASER seine Produktionsprozesse für die Herstellung von Bauelementen auf unsere Anlagentechnologie übertragen hat. Daher sind wir davon überzeugt, dass der jüngste Erwerb unserer AIX G5+ C Anlage, die sich bei führenden Herstellern von GaN-Leistungselektronik zur Referenzanlage entwickelt hat, das Ziel des Unternehmens, weitere Marktanteile in der GaN-Leistungselektronik zu gewinnen, unterstützen wird. Die Anlage bietet Konfigurationen von 8x150 mm und 5x200 mm und erfüllt  härteste Anforderungen seitens der Siliziumindustrie hinsichtlich Homogenität und Partikel. Damit überwindet die AIX G5+ C Anlagentechnologie von AIXTRON die Hürden zur Einführung von Galliumnitrid in die Produktionslinien der Siliziumindustrie“, sagt Dr. Bernd Schulte, Vorstandsmitglied der AIXTRON SE.

 

 


WKN: A0WMPJ

Kurs aktuell: 11,21€

Ziel: 15€

Stopp: 10,50€

 

nächste Q-Zahlen: 26.10.2017

Aktuell versucht die Aktie den "nächsten Schritt" zu machen und nach der Seitwärtsphase der letzten Wochen, stehen die Chancen gut. 

Wer auf Nummer sicher gehen möchte, der kauft 2% über das Jahreshoch ein, also wenn der nächste Schritt bereits angelaufen ist. Hier bietet sich die Stop Buy Strategie an.



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